Nicomp 380 系列納米粒徑與電位分析儀 是專門用于測量納米級(jí)顆粒以及膠體樣品體系的粒度分析儀器，其測量范圍為 0.3 nm - 10 μm。
 

　　儀器所擁有*的基線調(diào)整自動(dòng)補(bǔ)償能力和高分辨率多模式算法，多年來不同領(lǐng)域的使用證明了它可以區(qū)分開單峰樣本體系和無約束復(fù)雜多峰樣本體系，是研發(fā)的*選擇！Nicomp 380系列儀器是*在應(yīng)用動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)上的基礎(chǔ)上加入多模塊方法的粒度儀。可搭載自動(dòng)進(jìn)樣系統(tǒng)、自動(dòng)稀釋系統(tǒng)、多角度探測及高濃度背光散射和在線監(jiān)測等模塊，隨著模塊的升級(jí)和增加， Nicomp 380 可以更快更的用于各種復(fù)雜樣品的檢測分析。
 

　　技術(shù)優(yōu)勢(shì)：
 

　　· 符合美國USP729檢測項(xiàng)目I和符合中國藥典版的方法;
 

　　· 的Nicomp多峰算法和傳統(tǒng)高斯單峰算法相結(jié)合，為復(fù)雜體系提供更的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)；
 

　　· 的自動(dòng)稀釋模塊；
 

　　帶有的自動(dòng)稀釋模塊消除了人工稀釋高濃度樣品帶來的誤差，大大縮短了使用者測試的寶貴時(shí)間，測試結(jié)果重現(xiàn)性好，誤差率<1%；
 

　　· 度高，重現(xiàn)性好;
 

　　· 可選配超高分辨率檢測模塊；
 

　　· 模塊化設(shè)計(jì)便于維護(hù)和升級(jí)；
 

　　· 特為多組分不均勻體系設(shè)計(jì)；
 

　　· 可搭載自動(dòng)進(jìn)樣系統(tǒng)；
 

　　· *的樣品池設(shè)計(jì)，可消除樣品的交叉污染；
 

　　· 快速檢測，可追溯歷史數(shù)據(jù)；
 

　　· 并且能提供多種類的數(shù)據(jù)展現(xiàn)形式，Nicomp分布以粒子粒徑大小，數(shù)量和體積的形式分布呈現(xiàn)
 

　　· Zeta電勢(shì)電位測定：Nicomp Z3000結(jié)合了動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)(DLS)和電泳光散射法(ELS)，實(shí)現(xiàn)了同機(jī)測試亞微米粒子分布和ZETA電勢(shì)電位。ELS 是將電泳和光散射結(jié)合起來的一種新型光散射，它的光散射理論基礎(chǔ)是準(zhǔn)彈性碰撞理論，在實(shí)驗(yàn)時(shí)通過在樣品槽中外加一個(gè)外電場，帶電粒子即會(huì)以固定速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動(dòng)，與之相應(yīng)的動(dòng)態(tài)光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動(dòng)速度，因此由實(shí)驗(yàn)測得的譜線的漂移，就可以求得帶電粒子的電泳速度，從而得到ζ-電位值。通過測試顆粒之間排斥力 ，判斷體系穩(wěn)定性的測量手段之一。并且配備靶電極，經(jīng)久耐用。